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氣相沉積爐

氣相沉積爐

  • 所屬分類:真空冶金設備
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  • 發布時間:2022-02-11 17:38:22
  • 產品概述

氣相沉積爐

氣相沉積爐概述:CVD化學氣相沉積爐是用于制備碳碳復合材料,完成CVD氣相沉積工藝的重要工藝裝備。

氣相沉積爐

1)設計溫度:1250℃/1650℃/1800℃/2200℃

2)常用溫度:900~1200℃

3)真空度:<50Pa

4)壓升率:空爐冷態6.67Pa/h(或150Pa/24h)

5)加熱方式:石墨電阻加熱或感應加熱

6)氣氛介質:氮氣、丙烯、乙炔、氫氣

7)控氣方式:質量流量計控制

8)爐型:方形、圓形、立式或臥式結構(非標設計)

9)其它介質:爐殼冷水

氣相沉積爐

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