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真空熔煉定向凝固爐的用途及特點
真空熔煉定向凝固爐的用途：
太陽能級硅綻制造，也可以用于其他半導體材料提純。
真空熔煉定向凝固爐的特點：
控制精度高，結晶速度自由調節，采用石盟電阻或感應加熱熔煉法，增加熔液攪拌，熔煉速度快。定向凝固保溫采用特制加熱電源，具有三相電流平衡，維護費用低，采用恒溫度控制儀，可設置148段加熱工藝曲線，爐室采用高真空爐體，真空度高，抽氣速度快。
多晶硅定向凝固爐主要技術參數：
熔煉容量：10-450KG
電源功率：40-450KW
設計溫度：1700°C
工作溫度：1550°C
升溫速率：40°C/Min
爐溫均勻性：+5C
極限真空度：6.67x10-2Pa
壓升率：0.01PaL/S
額定充氣壓力：0.05Mpa
鑄錠方式：坩堝下降/保溫桶提升定向凝固
同服控制范圍：0.01mm-6mm/Min
定向凝固速率：0.01mm-0.5mm/Min
坩場快速返回速度：80-100mm/Min
